Dom - znanje - Podrobnosti

Metoda selektivnega brezelektričnega debelega pozlačevanja

Meriti

Razviti selektivno brezelektrično metodo debelega pozlačevanja in postati vsestranski postopek površinske obdelave

 

Cilj

Selektivna debelina zlata je nad {{0}}.3um, neselektivna debelina zlata pa je nad 0,1um

 

Težava

①Kemično nanašanje zlata pri reakciji izpodrivanja z debelino zlata 0.03-0.05 mikronov je primerno le za varilne površine.

②Ko je površina niklja postopoma prekrita s plastjo zlata, se hitrost nanašanja upočasni in debelina zlata je težko večja od 0.3 mikrona in gosta.

③Galvanizacija zahteva dodatne kable, ki jih je neprijetno dodati, ko so mreže prepletene

 

Načelo

①Sloj niklja se uporablja za katalitično redukcijo. Atom vodika se adsorbira, da se pridobijo elektroni. Atomski vodik zagotavlja reducent. Atomski vodik izgubi elektrone in vstopi v raztopino, da postanejo vodikovi ioni.

②Izvirno ožičenje vezja in kovinska plast iste vezne ploščice igrata vlogo prevodnika elektronov. Zlati ioni nenehno pridobivajo elektrone na površini zlata in se odlagajo, kar je enakovredno elektropozlačevanju

 

Metoda in korak

1. korak: Izvedite konvencionalno pozlačevanje s kemičnim izpodrivanjem, slika je 10000-kratna slika SEM površine zlata, debelina zlata pa je<0.02um

page-667-501

Namen: izpostaviti plast niklja, da dobimo reducirajoče elektrone

 

2. korak: Prilepite film proti nanosu, da izpostavite vezno blazinico, ki bo prevlečena z debelim zlatom

page-341-320

 

3. korak: Izvedite prvo redukcijsko brezelektrično pozlačevanje

page-670-501

Slika je 10000-krat zlata SEM slika

 

 

4. korak: Odstranite film proti prevleki

page-578-421

 

5. korak: Znova zmanjšajte neelektrično pozlačevanje

page-666-502

Slika je 10000-krat zlata SEM slika

 

 

 

Rezultati

 

Rezultati merjenja debeline zlata

Prva zamenjava kemičnega tankega zlata

Prva redukcijska prevleka kemično debelega zlata

Druga kemična redukcija debelega zlata

Selektivni kemični debeli zlati položaj

0.009-0.014μm

0.293-0.349μm

0.326-0.385μm

Druge lokacije

0.009-0.014μm

Prekrit s filmom proti premazu

0.105-0.111μm

 

Zaključek

Metoda selektivnega brezelektričnega pozlačevanja lahko izpolni ciljne zahteve.

Pošlji povpraševanje

Morda vam bo všeč tudi